设施栽培是指利用温室、塑料大棚或其他设施，改变或控制果树生长发育的环境因子，以达到人工调节果树生产的目的。
我国果树设施栽培的模式主要包括平地挖坑栽植、高畦栽培和起垄栽植、台式基质栽植和简盆式工厂化栽培4种，
(1)平地挖坑栽植
栽植的方法是整地、挖沟、施肥、栽树、灌水等，与露地栽培技术基本相似，称为平地挖坑栽培。
平地挖坑栽培的效果比露地栽培提早1～2个月上市，亩产量1500～2000千克，效益为2万～3万元。主要技术内容是：日光温室的结构，适宜的树种与品种，扣棚升温的适宜时期，不同生育时期温度、湿度的变化与调控技术，适宜的树形和授粉等配套栽培技术。
(2)高畦栽培和起垄栽植
高畦栽培，是在设施内做成高出地面的畦面，将果树定植在畦面上。高畦和平畦标准差不多，只是把畦埂修成畦沟。畦面高25～30厘米，宽50～100厘米，不同树种和栽植方式有所差别。
起垄栽植与高畦栽培近似，建园时用表层土堆积起垄成行。起垄时，土壤添加30%的有机肥，垄高40～50厘米、宽50～80厘米，把果树栽植于垄上。起垄后，土壤透气性增加，有利于提高土温，根系所处土层的水、肥、气、热环境稳定适宜，吸收根发生量大，生长根比例少。根系垂直分布浅，水平分布范围大，有利于树体矮化紧凑，易早花早果，也有利于果园管理与更新。
(3)台式基质栽植
该栽培方式的创新点是改平地挖坑施肥栽树为台式基质栽培，将设施内平地改为用红砖砌成的宽1米、深0.5米、长7米的砖槽，槽内原土全部挖出，回填的是由山皮土、肥沃园土、腐熟土杂肥、透性材料按2:4:4:1配制的基质，同时每立方米加2.5千克复合肥，充分拌匀，装填后覆盖黑地膜，膜下滴灌，肥水并施。
槽与槽之间形成了长、宽、深为7米×0.5米×0.5米的步道沟，使砖槽成为台地。台上株行距为1.2米×2.0米，每亩栽植杏树235株，品种选用能自花结实的凯特杏，苗龄为二年生的壮苗。
(4)盆式工厂化栽培
该栽培方式创新点是，
第一，用配方营养土盆栽杏树，不仅完全彻底地限制了根与冠的生长，而且使杏树成为可移动的果树，可以搬动至不同的设施环境中，这就是“移动果园”。
第二，设施不仅只是日光温室，而且增加了配套的可供果树夏季休眠用的、能自动调控温湿度的恒温库房，库房内温度可以控制在0～7℃，能够随时满足果树休眠的需要。
第三，利用盆栽杏树可移动的优势，可随时调节株行距（盆距），休眠时可盆摞盆，开花授粉时可盆靠盆，结果后加大盆距，充分接受阳光，积累养分形成花芽。
